La ligne de machines de revêtement PVD ionique sous vide à pulvérisation continue à faible -E est un système industriel hautement automatisé et fonctionnant en continu, utilisé pour déposer une ou plusieurs couches de films minces avec des fonctions spécifiques (telles que faible rayonnement, contrôle de la lumière solaire, auto-nettoyage, anti-réflexion, conductivité, etc.) sur la surface du verre plat.
Il s'agit de l'équipement de base pour le traitement moderne du verre en profondeur et est largement utilisé dans les domaines de la construction, de l'automobile, du photovoltaïque, des appareils électroménagers, des dispositifs d'affichage, etc.
Ligne de production de revêtement continu de verreest principalement utilisé pour le revêtement continu sous vide de film métallique, de film d'alliage, de film diélectrique ou de film multi-couche sur la surface du verre d'appareils électroménagers, du verre de meubles, du verre d'automobile, du miroir de grande surface, du verre fonctionnel ou décoratif, etc. Les plus courants sont le film réfléchissant, le film couleur, le film semi-transparent, etc. Les produits ont les fonctions de conservation de la chaleur, de filtrage de la lumière, d'économie d'énergie, de décoration, de résistance à la corrosion, etc.
La ligne de production de cellules solaires en silicium amorphe est principalement utilisée pour produire de grands modèles de verre photovoltaïque. Le verre ordinaire est utilisé comme substrat pour préparer un film conducteur transparent à l'oxygène via CVD ou PVD à pression atmosphérique, PECVD pour préparer diverses couches de film de silicium amorphe, pulvérisation magnétron pour préparer un film d'aluminium ou des électrodes AZO, le laser est utilisé pour rainurer le système de film au milieu, puis après test et emballage, le processus de fabrication des composants de batterie de grande surface - est terminé. L'ensemble du processus ne dépasse pas dix étapes.
Le processus de fabrication est plus simple que celui des cellules en silicium cristallin, le taux d'utilisation des matériaux en silicium est multiplié par des dizaines et le coût de fabrication n'est qu'environ 1/3 de celui des cellules en silicium cristallin.
La ligne de production de revêtement convient au revêtement de films métalliques tels que Al, Cr, SUS, Ni, Sn, Ti et alliages, et peut également réagir pour revêtir des films diélectriques tels que SiO2 et TiO2. Le processus de production est entièrement automatique et continu.
L'entreprise peut concevoir et fabriquer un ensemble complet d'équipements en fonction de la taille du substrat, des exigences techniques et des exigences de capacité de production fournies par l'utilisateur.
Cet équipement convient également au revêtement sur des substrats en verre ou sur des pièces plates telles que des clés de téléphone portable.
La ligne de production de revêtement de verre à faible-e faible-rayonnement (c'est-à-dire la ligne de production de revêtement de verre résistant aux radiations pour rideaux muraux-) convient au revêtement d'un film métallique unique, d'un film composite, d'un film d'alliage, d'un film diélectrique et d'autres films multi-couches sur un grand verre flotté plat, et peut également être enduit sur un petit verre incurvé.
La ligne de production de revêtement de verre conducteur ITO convient au revêtement de films conducteurs transparents TN, STN, TP et CF sur du verre flotté de haute -qualité. Il convient au revêtement de couches de film SiO2/ITO et le processus de production est entièrement automatique et continu.
L'ensemble de l'équipement peut être spécialement conçu et fabriqué en fonction de la taille du substrat, des exigences techniques et des exigences de capacité de production fournies par l'utilisateur.
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