Machine de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron

Machine de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron

Détails
La machine à revêtement à vide de la pulvérisation de magnétron est une technologie de dépôt physique de vapeur (PVD) largement utilisée. Son noyau est d'utiliser un champ magnétique pour contraindre le mouvement des électrons, améliorant considérablement l'efficacité de la pulvérisation et la qualité du film.
Classification des produits
Machine à revêtement à vide
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Description
Paramètres techniques

Principe opérationnel:

 

La machine à revêtement à vide de la pulvérisation de magnétron est une technologie de dépôt physique de vapeur (PVD) largement utilisée. Son noyau est d'utiliser un champ magnétique pour contraindre le mouvement des électrons, améliorant considérablement l'efficacité de la pulvérisation et la qualité du film.

Sa caractéristique principale est l'utilisation de champs magnétiques pour limiter la trajectoire du mouvement des électrons, améliorant considérablement l'efficacité de la pulvérisation et le taux de dépôt.

 

Applications:

 

Il est largement utilisé dans les appareils électroménagers, les horloges, les têtes de golf, les arts et l'artisanat, les jouets, les réflecteurs de lumière de voiture, les coquilles de bouton de téléphone portable, les instruments et les compteurs, les plastiques, le verre, la céramique, les carreaux et autres revêtements décoratifs de surface et revêtements fonctionnels pour les outils et les moules.

 

Il présente des avantages dans les domaines du plateau de film ultra-noir, du film décoratif en or pur, du film conducteur, etc.

 

 

Caractéristiques:

 

Le champ magnétique limite les électrons

 

Taux d'ionisation élevé, taux de dépôt rapide, efficacité de production élevée

 

Taux de pulvérisation élevé

 

Dépôt à basse température

 

Haute qualité du film:

Adhésion forte, compacité, bonne contrôlabilité de composition, bonne uniformité

 

La machine à revêtement à vide de la pulvérisation du magnétron atteint un taux d'ionisation élevé, un taux de pulvérisation élevé et un dépôt à basse température en raison de sa caractéristique centrale des électrons de confinement du champ magnétique.

 

Cela apporte des avantages importants tels que l'efficacité de dépôt élevée, la large gamme d'applications de substrats (en particulier les substrats avec une mauvaise résistance à la chaleur), une excellente qualité de film (forte adhésion, densité, composition contrôlable, bonne uniformité) et une forte flexibilité de processus.

 

Ces avantages en font l'une des technologies PVD préférées ou traditionnelles dans de nombreux domaines tels que le revêtement optique, la microélectronique / semi-conducteurs, les cellules solaires, les écrans à panneaux plats, les revêtements durs de l'outil, les revêtements décoratifs, les revêtements résistants et résistants à la corrosion et les films fonctionnels.

 

Spécification:

 

Machine de revêtement à vide de pulvérisation de magnétron

Modèle

CJ-600

CJ-800

CJ-1000

CJ-1200

CJ-1400

CJ-1500

CJ-1600

Taille de chambre

Φ600 × 800 mm

Φ800 × 1000 mm

Φ1000 × 1200 mm

Φ1200 × 1400 mm

Φ1400 × 1600 mm

Φ1500 × 1500 mm

Φ1600 × 1800 mm

Aspirateur

Unité de pompe de diffusion KT400

Unité de pompe de diffusion KT500

Unité de pompe de diffusion KT800

Unité de pompe de diffusion KT630

Unité de pompe à diffusion Double KT630

Unité de pompe à diffusion Double KT630

Unité de pompe à diffusion Double KT630

Système de revêtement

CC ou alimentation à fréquence moyenne, revêtement d'alimentation spéciale à ion auxiliaire

Système d'inflation

Flux de masse

Méthode de contrôle

Manuel ou entièrement automatique

Vide ultime

5x10-3pa

Remarque

Les paramètres de l'équipement ci-dessus sont uniquement pour référence et sont conçus et personnalisés en fonction des exigences réelles du processus des clients.

 

 

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