Rouleau-à-machine de revêtement par évaporation par pulvérisation magnétron

Rouleau-à-machine de revêtement par évaporation par pulvérisation magnétron

Détails
La machine de revêtement sous vide composite double face par évaporation magnétron-rouleau à-par évaporation magnétron est un équipement de revêtement avancé hautement intégré qui combine les avantages de la pulvérisation magnétron et des technologies de revêtement par évaporation sous vide, et peut recouvrir les deux côtés du rouleau flexible simultanément ou séparément.
État : Nouveau
Garantie : 1 an
Service après-vente-fourni : installation, mise en service et formation sur le terrain, ingénieurs disponibles pour entretenir les machines à l'étranger
Certifications : CE, ISO9001
Substrat : Plastique, PET, PP non tissé, papier, etc.
Matériau de la chambre à vide : acier inoxydable supérieur SUS-304
Taille de la chambre à vide : sur mesure-
Structure de la chambre à vide : verticale/horizontale/par lots/en ligne-
Matériau de dépôt : Titane/Aluminium/Chrome/Cuivre/TiAl/TiN/SS, etc.
Fonction du film de revêtement : décoratif, super dur, résistant à l'usure,-résistant, anti-corrosion, réfléchissant, effet de blindage, conduction, non-conduction, etc.
Couleur du revêtement : or, or rose, argent, noir, bleu, café, arc-en-ciel, violet, etc.
Classification des produits
Machine de revêtement de rouleau-à-rouleau
 
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Description
Paramètres techniques

Principe de fonctionnement

Le principe de fonctionnement peut être divisé en : équipement de revêtement d'enroulement sous vide d'évaporation de chauffage par résistance ; équipement de revêtement par enroulement sous vide par évaporation par chauffage par induction ; équipement de revêtement par enroulement sous vide par évaporation par chauffage par faisceau d'électrons ; équipement de revêtement d'enroulement sous vide par pulvérisation magnétron, etc. Parmi eux, l'équipement de revêtement d'enroulement sous vide par chauffage par faisceau d'électrons est utilisé pour l'évaporation à grande échelle de matériaux à point de fusion élevé tels que le SiO2.

 

L'équipement de revêtement de bobinage basé sur le principe de pulvérisation magnétron a une efficacité de production inférieure, mais présente les avantages d'une large gamme de revêtement et d'une forte adhérence du film.

 

Applications

 

La série CJRW est principalement utilisée dans les cartes de circuits imprimés flexibles, les films conducteurs transparents ITO, les condensateurs à couches minces, les films de voiture, les cellules solaires à couches minces, les cellules solaires flexibles, etc. Elle adopte la technologie de revêtement par pulvérisation magnétron et est équipée de systèmes de pulvérisation magnétron DC, moyenne fréquence ou radiofréquence, qui conviennent au revêtement de films métalliques, de films conducteurs, de films totaux, de films diélectriques, etc.

 

La série SFRW adopte la technologie de revêtement par évaporation par faisceau d'électrons, qui convient au revêtement de films d'emballage transparents à haute résistance-, de films anti-contrefaçon, de films fantaisie, de films optiques, de films diélectriques, etc. sur la surface du PET, du PVC, du PI, du CPP et d'autres films.

 

La série ZFRW est principalement utilisée dans l'impression de films d'emballage, de papier d'emballage, de fils d'or et d'argent, de films de condensateur, de films fonctionnels, etc. L'équipement adopte une évaporation par induction à haute fréquence - avancée ou une évaporation continue par alimentation de fil et d'autres technologies, et l'ensemble du processus est entièrement contrôlé automatiquement.

 

 

 

 

 

 

 

Avantage:

 

Revêtement double-face

Améliorer l'efficacité de la production et réduire les coûts ; obtenir des fonctions composites qui ne peuvent pas être obtenues avec un revêtement-sur une seule face

La combinaison de la pulvérisation magnétron et de l’évaporation sous vide tire pleinement parti des atouts des deux technologies pour produire des systèmes de films multicouches complexes en un seul processus continu afin de répondre aux exigences de performances les plus exigeantes.

 

Production continue en continu-en-rouleau

Très adapté au traitement-efficace et à grande échelle de substrats flexibles, réduisant considérablement les coûts de production unitaires.

 

Environnement sous vide

Garantit que la couche de film est pure, dense, a une bonne adhérence et a des performances stables et fiables.

La machine de revêtement sous vide composite double face à évaporation à contrôle magnétique-est l'un des équipements clés de l'industrie manufacturière de pointe moderne.

 

Son cœur d'application consiste à conférer des-performances élevées et des propriétés de surface multifonctionnelles aux substrats flexibles. Il a grandement favorisé le développement de nombreuses industries de haute-technologie telles que l'emballage haut de gamme-, l'électronique flexible, les nouvelles énergies, les bâtiments-économes en énergie, les matériaux fonctionnels, etc., en particulier dans le domaine de la légèreté, de la flexibilité, des hautes performances et des propriétés de barrière élevées.

 

Il joue un rôle irremplaçable.

 

Spécification

CJRW/SFRW/ZFRWsérie

Modèle

Série CJRW

Série SFRW

Série ZFRW

Application

Film fonctionnel ITO/carte de circuit imprimé flexible, film de contrôle solaire, film à faible -émissivité, cellule solaire à couche mince-, etc.

Film anti-contrefaçon, film couleur, film d'emballage haute-résistant, films optiques divers, etc.

Fil d'or et d'argent, film de condensateur, papier d'emballage, impression, film d'emballage, etc.

Matériaux de bobinage

PET/RPC/BOPP/PVC/PC/PA/PI

PET/RPC/BOPP/PVC/PC

PET/RPC/BOPP/PVC

Largeur de revêtement efficace

1200mm

1100mm

2000 mm

Diamètre maximum du rouleau

Φ900mm

Φ900mm

Φ900mm

Vitesse d'enroulement maximale

5-20 m/min

100-400 m/min

500 m/min

Vitesse de revêtement commune

1-15 m/min

10-300 m/min

60-400 m/min

Température du rouleau de revêtement

–15-25 degrés

–15-25 degrés

–15-25 degrés

Méthode de revêtement

Pulvérisation magnétron

Évaporation par faisceau d'électrons

Évaporation de la résistance

Source d'ions auxiliaire de revêtement

Dispositif d'assistance ionique cryogénique

Système de refroidissement en profondeur

TH-145-10P

Méthode de contrôle

Contrôle automatique par ordinateur industriel

Taux de pompage

5*10-3Pa<15min

Vide ultime

5,0*10-4Pa

Note

Les paramètres d'équipement ci-dessus sont uniquement à titre de référence et sont conçus et personnalisés en fonction des exigences réelles des clients en matière de processus.

 

 

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