L'équipement de pulvérisation de magnétron bombarde principalement la surface cible avec des ions, des atomes ou des molécules de pulvérisation sur la surface cible sur le substrat pour former un film mince. Les fonctions principales de l'équipement de pulvérisation de magnétron sont les suivantes:
1. Préparation de divers matériaux à couches minces: l'équipement de pulvérisation de magnétron peut être utilisé pour préparer divers matériaux à couches minces tels que les métaux, les alliages, les semi-conducteurs, etc., et est largement utilisé en électronique, optoélectronique, affichage et autres champs.
2. Améliorer les propriétés du matériau: l'équipement de pulvérisation de magnétron peut modifier la microstructure et la composition du film en contrôlant les conditions de pulvérisation, améliorant ainsi les propriétés mécaniques et les propriétés optiques du matériau.
3. Modification de surface: L'équipement de pulvérisation de magnétron peut préparer différents couches minces sur la surface du substrat pour atteindre la modification de la surface, la protection contre la corrosion, le revêtement et d'autres fonctions.
En bref, l'équipement de pulvérisation de magnétron est un équipement important de traitement des matériaux et de traitement de surface avec un large éventail d'applications et une importance économique et sociale importante.
